論述了uv光解除臭設(shè)備的工作原理

 

 

 

uv光解除臭設(shè)備具有較強(qiáng)的適應(yīng)性、低運(yùn)營(yíng)成本和設(shè)備占的面積小,應(yīng)該應(yīng)用于煉油廠,橡膠工廠,化工廠、制藥、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站,餐廚垃圾處理廠,飼料工廠,工廠染色工廠、涂料和其它污染惡臭氣體的除臭凈化。高能、高臭氧光波用于分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧。由于自由氧所攜帶的正電子和負(fù)電子的不平衡，它需要與氧分子結(jié)合才能產(chǎn)生臭氧。眾所周知，臭氧對(duì)有機(jī)物有很強(qiáng)的氧化作用。

 

 

 

廢氣凈化設(shè)備光催化氧化的反應(yīng)原理是什么?

uv光解除臭設(shè)備是在外界可見光催化作用下，以半導(dǎo)體和空氣為催化劑，光為能源，有機(jī)降解成CO2和H2O等無(wú)毒無(wú)害的組分。我公司采用人造紫外線光波作為能源，經(jīng)我公司***殊處理后的活性zui強(qiáng)、反應(yīng)效率高的納米TiO2催化劑zui，對(duì)廢氣惡臭氣體進(jìn)行處理后能達(dá)到較***的凈化效果。

uv光解除臭設(shè)備在半導(dǎo)體光催化氧化反應(yīng)中，紫外光照射在納米TiO2催化劑上，納米TiO2催化劑吸收光能產(chǎn)生電子躍遷和空穴躍遷，進(jìn)一步結(jié)合產(chǎn)生電子-空穴對(duì)。

 

和廢氣表面吸附的水(H2O)和氧氣(O2)反應(yīng)生成氧化非常活波的羥基自由基和超氧離子自由基可以減少各種有機(jī)廢氣等碳?xì)浠衔?、醛類、酚類、醇、硫醇、苯、氨、氮、硫和其它VOC有機(jī)和無(wú)機(jī)物質(zhì)的作用下光催化氧化,減少二氧化碳(CO2),水(H2O)和其他無(wú)毒無(wú)害的物質(zhì),凈化后的廢氣分子被激活退化,氣味消失的同時(shí),也有廢氣凈化的效果,同時(shí)細(xì)菌和病毒的繁殖管可以有效地去除,因?yàn)闆]有添加劑在光催化氧化過(guò)程中,沒有二次污染。在運(yùn)營(yíng)成本方面，只使用電能，不需要頻繁更換配件。因此，它對(duì)企業(yè)來(lái)說(shuō)是相當(dāng)節(jié)能環(huán)保的。