光氧催化設備的清洗周期

 

光氧催化設備的清洗周期一般約為3個月。清洗周期越短，氣味處理的功率越高。假如長期不清洗，將會有許多安全隱患。待清洗的洗滌劑可用一般熱水和苛性鈉完結。水溫控制在50°，由于水溫文苛性鈉處理才能是水溫，能夠即將清洗的設備放在清洗槽中。

 

光氧催化清洗的***要過程是堵截電源，翻開檢查門，取出要清洗的設備，然后將其浸入苛性鈉中半小時，然后用水完全沖刷并用天然辦法干燥，以保證設備干燥。能夠將其放回UV光解設備中，然后完結簡略的清洗作業(yè)。裝置光氧催化設備后，制造商將為企業(yè)進行清洗和保護訓練，由于清洗過程并不困難，因而一般人都能夠操作，這是光氧催化設備中廣泛運用的因素之一。